企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 21 项| 产品名称 | Cygnus Capella SiO 等离子体增强原子层薄膜沉积系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | Cygnus Capella SiO 等离子体增强原子层薄膜沉积系统 Cygnus Capella SiO PEALD System Cygnus Capella SiO产品是一款针对硅通孔（TSV）氧化硅薄膜填充的化学气相沉积设备，适用于集成电路、先进封装、图像传感器，硅光，新兴应用与科研领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。该系统采用标准化的传输系统和模块化的工艺腔室设计，配置灵活、工艺窗口宽、功能集成度高，占地小，单位面积产能高，量产稳定性高，各项工艺技术指标均达到国际先进水平。 |
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| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 半导体装备 | 社会招聘 校园招聘 海外招聘 内部推荐 |
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| 设备特点 | 四腔室设计，高产能 高薄膜质量和优越的台阶覆盖率 精准的膜厚可控和良好的均匀性 均匀的气流场、温度场和射频场设计，保障薄膜性能一致性 较小的占地面积，高产能，稳定量产 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12英寸 沉积材料 氧化硅 适用工艺 硅通孔、深沟槽隔离 适用领域 集成电路、先进封装、科研 |
| 等离子体增强原子层薄膜沉积系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2441.html |
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