企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 20 项| 产品名称 | iTops i233 PVD ITO溅射系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 关于华创 | 了解华创 品牌释义 企业文化 行业地位 企业荣誉 社会责任 合规声明 |
| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 半导体装备 | 社会招聘 校园招聘 海外招聘 内部推荐 |
| 真空新能源装备 | 社会招聘 校园招聘 内部推荐 |
| 精密元件器装备 | 社会招聘 校园招聘 |
| 设备特点 | 采用托盘形式，可兼容2/4/6/8/12英寸wafer 低损伤溅射工艺 占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便 设备稳定，运营成本低 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 2、4、6、8、12英寸 适用材料 铟锡氧化物 适用工艺 ITO 电流扩展层 |
| PVD ITO溅射系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
| 分享我们 | 微信扫一扫 |
| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2445.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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