企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 20 项| 产品名称 | NMC 612G 12英寸金属刻蚀机 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 关于华创 | 了解华创 品牌释义 企业文化 行业地位 企业荣誉 社会责任 合规声明 |
| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 真空新能源装备 | 社会招聘 校园招聘 内部推荐 |
| 精密元件器装备 | 社会招聘 校园招聘 |
| 设备特点 | 兼容铝、硅、氧化物、钼、氧化铟锡等多种刻蚀材料 高性能的静电卡盘，可用于Si wafer及玻璃片稳定吸附 多样化的工艺均匀性调节手段 有竞争力的Uptime&MTBC&WPH表现 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12英寸 适用材料 铝、硅、氧化物、钼、氧化铟锡等 适用工艺 铝线、铝垫、硅、介质刻蚀、铝/钼/ITO等金属刻蚀 适用领域 集成电路、先进封装 |
| 12英寸金属刻蚀机 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2459.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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