企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 20 项| 产品名称 | Polaris H630 PVD 氮化钛金属硬掩膜物理气相沉积系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | Polaris H630 PVD 氮化钛金属硬掩膜物理气相沉积系统 Polaris H630 PVD TiN Metal HardMask PVD System Polaris H630 在IC制备流程后段工艺（BEOL）中应用广泛。搭配的exiTin TTN腔室为标准PVD腔室，主要沉积高纯度的TiN薄膜，重点应用于集成电路制造后道的金属硬掩膜工序薄膜，可同时满足较好的厚度均匀性和Rs均匀性。 |
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| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 设备特点 | 优化的工业设计满足用户对占地尺寸和维护空间的要求 独特的磁控溅射源和腔室结构设计有效提高靶材利用率 配置灵活，大产能，低运营成本 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12 英寸 适用材料 氮化钛 适用工艺 硬掩膜沉积 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2449.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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