企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 21 项| 产品名称 | eVictor系列 8英寸通用物理气相沉积系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | eVictor系列 8英寸通用物理气相沉积系统 eVictor Series 8 Inch General PVD System eVictor系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统主要由真空传输平台，去气腔室（Degas），预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用Cluster Tool架构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，其中工艺腔室可根据客户选择进行配置。eVictor系列PVD设备具有反应腔自动开闭盖，wafer自动传输，工艺去气，晶片表面预清洁、薄膜沉积完全自动化等特点。该系列产品广泛应用于6/8英寸功率、新兴科研等领域。 |
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| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 设备特点 | 独特的加热基座设计，具备良好的温度均匀性，高温厚铝工艺连续作业无累温 高温厚铝工艺具备高深宽比填充能力 背金工艺薄片传输及工艺，过程温度实时监控，优异的温度和应力控制能力 双腔传输平台，最多可支持10个工艺模块 靶材利用率高，大产能，低运营成本 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 6、8 英寸 适用材料 钛、氮化钛、铝、 镍、镍钒、银 适用工艺 铝线、正面电极工艺、背面金属化、氮化钛阻挡层工艺等 |
| 8英寸通用物理气相沉积系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2452.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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