企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 21 项| 产品名称 | iTops A230Ⅱ PVD AlN铝溅射系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | 设备特点 极高的加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力 高晶体质量的氮化铝薄膜及优异的薄膜厚度均匀性 占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便 设备稳定，稼动率高，运营成本低 产品应用 晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容 适用材料 氮化铝 适用工艺 氮化铝缓冲层溅射 分享我们： 微信扫一扫 |
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| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 设备特点 | 极高的加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力 高晶体质量的氮化铝薄膜及优异的薄膜厚度均匀性 占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便 设备稳定，稼动率高，运营成本低 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容 适用材料 氮化铝 适用工艺 氮化铝缓冲层溅射 |
| PVD AlN铝溅射系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2446.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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