企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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| 产品名称 | Polaris Ascella系列 12英寸钛及氮化钛薄膜沉积系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | Polaris Ascella系列 12英寸钛及氮化钛薄膜沉积系统 Polaris Ascella Series 12 Inch Ti&TiN Film Deposition System Polaris Ascella系列CVD/ALD金属薄膜沉积设备可用于沉积金属钛与氮化钛,系统主要由大气平台、真空传输平台、工艺腔室组成,采用8K平台,最多可配置6个工艺腔室,可根据客户需求灵活配置腔室数量。 |
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| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 产品应用 | 晶圆尺寸 12 英寸 适用材料 钛、氮化钛 |
| 12英寸钛及氮化钛薄膜沉积系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
| 高深宽比填充能力 可实现高达40 | 1及更高深宽比的填充 |
| 可实现高达40 | 1及更高深宽比的填充 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2438.html |
参数由厂商公开资料整理,实际以产品实物及官方说明为准。