企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 21 项| 产品名称 | Pollux Luxon HTUV 低/超低介电常数薄膜紫外处理系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | Pollux Luxon HTUV 低/超低介电常数薄膜紫外处理系统 Pollux Luxon HTUV UV Cure System Pollux Luxon HTUV产品是一款针对后段紫外固化处理薄膜的化学气相沉积设备，适用于集成电路、功率半导体等领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。该系统采用标准化的传输系统和模块化的工艺腔室设计，配置灵活、工艺窗口宽、功能集成度高，各项工艺技术指标均达到国际先进水平。 |
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| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 设备特点 | 双腔室设计，大产能，低运营成本 独特的气流场设计与控压组件，工艺环境稳定 优异的紫外光辐照控制，卓越的温度场表现 腔室原位清洗技术，提高工艺稳定性与一致性 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12英寸 适用材料 低 / 超低介电常数薄膜、氮化硅、氧化硅 适用工艺 紫外固化、热处理、去电荷 适用领域 40nm以下集成电路 |
| 低/超低介电常数薄膜紫外处理系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2443.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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