企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 21 项| 产品名称 | ACE E300 高选择比刻蚀机 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | ACE E300 高选择比刻蚀机 ACE E300 High Selectivity Etcher ACE E300 刻蚀设备面向12英寸后摩尔时代逻辑芯片与 3D 结构制程场景，整机搭载超高效率离子过滤硬件模块实现粒子能量精准管控。依托离子过滤精密能量调控核心技术，兼容硅、介质、金属多类薄膜刻蚀及 3D 横向刻蚀工艺，达成超高刻蚀选择比，实现底层/停阶层零等离子损伤，搭配OES Plus监测腔室稳定性，控制刻蚀速率、保障批量工艺一致性。设备实现粒子能量精准可调、超高工艺选择比、底层材料低损伤、批次工艺高重复稳定的核心性能指标，可满足各类高精度刻蚀严苛制程要求。 |
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| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 设备特点 | 配备超高效率离子过滤技术，精准调控反应粒子能量分布。 超高刻蚀选择比，实现底层/停阶层敏感材料的零损伤。 精确刻蚀速率控制保障产线良率。 配备OES Plus监测腔室稳定性，确保批次运行的高重复性。 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12" 适用领域 集成电路 适用工艺 硅刻蚀、多晶硅刻蚀、浅槽隔离刻蚀、Low-k刻蚀 适用材料 硅、氧化硅、氮化硅 |
| 高选择比刻蚀机 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2469.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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