企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
参数规格
共 21 项| 产品名称 | ACE E300Ge 高选择比刻蚀机 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | 设备特点 配备立体高密度等离子源以及超高效率离子过滤技术，精准调控反应粒子能量分布。 更高刻蚀选择比，刻蚀材料宽泛。 极高的材料选择比可大幅减掩膜厚度，有效简化前后道制程工序。 配备OES Plus监测腔室稳定性，确保批次运行的高重复性。 产品应用 晶圆尺寸 12" 适用领域 集成电路 适用工艺 横向刻蚀，表面损伤层处理，氮化钛刻蚀 适用材料 硅、氧化硅、氮化硅、氮化钛、钨、氧化铪 分享我们： 微信扫一扫 |
| 关于华创 | 了解华创 品牌释义 企业文化 行业地位 企业荣誉 社会责任 合规声明 |
| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 半导体装备 | 社会招聘 校园招聘 海外招聘 内部推荐 |
| 真空新能源装备 | 社会招聘 校园招聘 内部推荐 |
| 精密元件器装备 | 社会招聘 校园招聘 |
| 设备特点 | 配备立体高密度等离子源以及超高效率离子过滤技术，精准调控反应粒子能量分布。 更高刻蚀选择比，刻蚀材料宽泛。 极高的材料选择比可大幅减掩膜厚度，有效简化前后道制程工序。 配备OES Plus监测腔室稳定性，确保批次运行的高重复性。 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12" 适用领域 集成电路 适用工艺 横向刻蚀，表面损伤层处理，氮化钛刻蚀 适用材料 硅、氧化硅、氮化硅、氮化钛、钨、氧化铪 |
| 高选择比刻蚀机 | 联系咨询 / 公司名称 |
| 分享我们 | 微信扫一扫 |
| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2470.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
免责声明本页信息整理自互联网公开渠道，仅供资讯参考，不构成任何投资或商业决策依据；相关产品参数、企业信息可能存在滞后或误差，请以厂商官方发布为准。如内容涉及版权、准确性或侵权问题，请联系 981209856@qq.com，我们将第一时间核实处理。