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NMC 612E系列 12英寸ICP刻蚀机 NMC 612E Series 12 Inch ICP Etcher NMC612E系列是应用于12英寸等离子体干法刻蚀设备。该设备具有更灵活的脉冲等离子体控制技术,实现对等离子成分和离子能量的精确调控,能够实现更小尺寸、更高深宽比刻蚀的精准形貌控制能力,并配备多区温控静电吸附卡盘,实现更精确的温度控制;同时具备高均一气流场控制系统及灵活气流场分布调节能