企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 20 项| 产品名称 | NMC 612E系列 12英寸ICP刻蚀机 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | NMC 612E系列 12英寸ICP刻蚀机 NMC 612E Series 12 Inch ICP Etcher NMC612E系列是应用于12英寸等离子体干法刻蚀设备。该设备具有更灵活的脉冲等离子体控制技术，实现对等离子成分和离子能量的精确调控，能够实现更小尺寸、更高深宽比刻蚀的精准形貌控制能力，并配备多区温控静电吸附卡盘，实现更精确的温度控制；同时具备高均一气流场控制系统及灵活气流场分布调节能力，可以实现优异的wafer均匀性控制。NMC612E系列设备主要应用于浅槽隔离刻蚀、栅极刻蚀、侧墙刻蚀、自对准多重图形化曝光、钨刻蚀、金属硬掩膜刻蚀、高K值介质刻蚀，应用于Logic、DRAM、3D NAND、微显示、硅光等领域，量产经验丰富。 |
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| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 设备特点 | 更小尺寸&更高深宽比刻蚀形貌控制能力 灵活的区域级调节线宽关键尺寸均匀性控制能力 先进的气体快速切换类原子层刻蚀工艺 突出的小尺寸颗粒控制能力，更长的MTBC 可配置大产能高效传输平台 |
| 12英寸ICP刻蚀机 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2461.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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