企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
| 产品名称 | Polaris系列 12英寸背面金属物理气相沉积系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | 设备特点 独特的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率 灵活的腔室配置,优化的工艺流程带来大产能表现,低运营成本 针对功率半导体领域优化、稳定的传输系统,兼容翘曲片、键合片、薄片等多种类型基片传输 良好的颗粒和应力控制能力 产品应用 晶圆尺寸 12 英寸 适用材料 铝、镍钒、银、钛 适用工艺 背面金属化工艺 分享我们: 微信扫一扫 |
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| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 精密元件器装备 | 社会招聘 校园招聘 |
| 设备特点 | 独特的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率 灵活的腔室配置,优化的工艺流程带来大产能表现,低运营成本 针对功率半导体领域优化、稳定的传输系统,兼容翘曲片、键合片、薄片等多种类型基片传输 良好的颗粒和应力控制能力 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12 英寸 适用材料 铝、镍钒、银、钛 适用工艺 背面金属化工艺 |
| 12英寸背面金属物理气相沉积系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2450.html |
参数由厂商公开资料整理,实际以产品实物及官方说明为准。