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Scaler HK430 热原子层沉积系统 Scaler HK430 Thermal ALD System Scaler HK430主要用于12英寸高介电常数材料薄膜的沉积工艺。设备能够实现优异的工艺稳定性控制,达成更好的薄膜沉积均匀性及优异的颗粒控制表现。在结构系统方面,采用每腔单片式设计,在气流场均匀性、温度控制等方面表现优异,单片工艺结果一致性大幅提高;在软件方面,通过全自动流程及相关数据监