企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 21 项| 产品名称 | Scaler HK430 热原子层沉积系统 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | Scaler HK430 热原子层沉积系统 Scaler HK430 Thermal ALD System Scaler HK430主要用于12英寸高介电常数材料薄膜的沉积工艺。设备能够实现优异的工艺稳定性控制，达成更好的薄膜沉积均匀性及优异的颗粒控制表现。在结构系统方面，采用每腔单片式设计，在气流场均匀性、温度控制等方面表现优异，单片工艺结果一致性大幅提高；在软件方面，通过全自动流程及相关数据监控、安全互锁设定等为实现稳定量产提供更好的运行环境。 |
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| 新闻&活动 | 企业新闻 展会活动 |
| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 半导体装备 | 社会招聘 校园招聘 海外招聘 内部推荐 |
| 真空新能源装备 | 社会招聘 校园招聘 内部推荐 |
| 精密元件器装备 | 社会招聘 校园招聘 |
| 设备特点 | 优越的填孔能力以及良好的薄膜均匀性 独特的腔室结构设计，具备良好的防酸腐蚀能力 优化机台结构，缩小占地面积 友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效 |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12英寸 适用材料 氧化铪、氧化锆、氧化铝 适用工艺 栅极介质层、介质层、钝化层 适用领域 集成电路、科研、先进封装 |
| 热原子层沉积系统 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2437.html |
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