企业级IT与信创国产化深度观察 | 大观视界
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参数规格
共 21 项| 产品名称 | Accura NZ 12英寸介质刻蚀机 |
|---|---|
| 产品系列 | 企业级IT产品 |
| 官方介绍 | Accura NZ 12英寸介质刻蚀机 Accura NZ 12 Inch Dielectric Etcher 机台主要应用于12英寸介质刻蚀尤其是高深宽比介质刻蚀，典型的应用场景为3D NAND G5及以上高深宽比channel hole刻蚀。机台配备大功率的高频、低频射频电源，实现在高等离子体密度的同时具有极强的各向异性刻蚀能力；搭配边缘等离子体调节系统（PEA）、4zone 磁场线圈，满足整个晶圆图案的垂直刻蚀一致性；多区静电卡盘氦冷系统、三区进气、tuning gas 模块保证刻蚀结果达到较高的均匀性。 |
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| 产品&服务 | 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
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| 设备特点 | 超高深宽比介质刻蚀能力 精确的深孔形貌控制 快速静电吸盘高低温切换技术 射频加磁场鞘层调节能力 优异的产能、生产稳定性、MTBC |
| 产品应用 | 晶圆尺寸 12英寸 适用材料 氧化硅、氮化硅及其叠层 适用工艺 高深宽比介质刻蚀 适用领域 集成电路 |
| 12英寸介质刻蚀机 | 联系咨询 / 公司名称 |
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| 办公地址 | 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 产品特点 | 产品&服务 半导体装备 真空新能源装备 精密元器件 服务网络 |
| 产品特点 | 等离子刻蚀设备 Etch |
| 产品特点 | 物理气相沉积设备 PVD |
| 产品特点 | 化学气相沉积设备 CVD |
| 产品特点 | 立式炉管设备 Vertical Furnace |
| 产品特点 | 离子注入设备 Implant |
| 资料来源 | 企业官网产品页 https://www.naura.com/product/details_15_2455.html |
参数由厂商公开资料整理，实际以产品实物及官方说明为准。
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