北方华创 eVictor系列 12英寸通用物理气相沉积系统
eVictor系列 12英寸通用物理气相沉积系统 eVictor Series 12 Inch PVD System eVictor系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统主要由大气平台,真空传输平台,去气腔室,预清洁腔室和工艺腔室组成,设备采用Cluster Tool架构,可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室,其中工艺腔室可根据客户选择配置不同工艺材料的腔室。eVictor系列PVD设备具有反应腔
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eVictor系列 12英寸通用物理气相沉积系统 eVictor Series 12 Inch PVD System eVictor系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统主要由大气平台,真空传输平台,去气腔室,预清洁腔室和工艺腔室组成,设备采用Cluster Tool架构,可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室,其中工艺腔室可根据客户选择配置不同工艺材料的腔室。eVictor系列PVD设备具有反应腔
Cygnus Capella SiO 等离子体增强原子层薄膜沉积系统 Cygnus Capella SiO PEALD System Cygnus Capella SiO产品是一款针对硅通孔(TSV)氧化硅薄膜填充的化学气相沉积设备,适用于集成电路、先进封装、图像传感器,硅光,新兴应用与科研领域,可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。该系统采用标准化的传输系统和模块化的工艺腔室设计,配置灵活、工
Accura NZ 12英寸介质刻蚀机 Accura NZ 12 Inch Dielectric Etcher 机台主要应用于12英寸介质刻蚀尤其是高深宽比介质刻蚀,典型的应用场景为3D NAND G5及以上高深宽比channel hole刻蚀。机台配备大功率的高频、低频射频电源,实现在高等离子体密度的同时具有极强的各向异性刻蚀能力;搭配边缘等离子体调节系统(PEA)、4zone 磁场线圈,满足整
eVictor系列 8英寸通用物理气相沉积系统 eVictor Series 8 Inch General PVD System eVictor系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统主要由真空传输平台,去气腔室(Degas),预清洁腔室和工艺腔室组成,设备采用Cluster Tool架构,可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室,其中工艺腔室可根据客户选择进行配置。eVictor系列PVD设备具有反应
ACE E300 高选择比刻蚀机 ACE E300 High Selectivity Etcher ACE E300 刻蚀设备面向12英寸后摩尔时代逻辑芯片与 3D 结构制程场景,整机搭载超高效率离子过滤硬件模块实现粒子能量精准管控。依托离子过滤精密能量调控核心技术,兼容硅、介质、金属多类薄膜刻蚀及 3D 横向刻蚀工艺,达成超高刻蚀选择比,实现底层/停阶层零等离子损伤,搭配OES Plus监测腔室
Polaris Ascella系列 12英寸钛及氮化钛薄膜沉积系统 Polaris Ascella Series 12 Inch Ti&TiN Film Deposition System Polaris Ascella系列CVD/ALD金属薄膜沉积设备可用于沉积金属钛与氮化钛,系统主要由大气平台、真空传输平台、工艺腔室组成,采用8K平台,最多可配置6个工艺腔室,可根据客户需求灵活配置腔室数量。
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软通咨询作为软通动力集团旗下的咨询品牌,成立于 2018 年,总部设于上海。数字化时代下,基于对国内市场和数字化的深入了解和积淀,软通咨询根植于中国特色国情,紧抓数字化机遇,注重创新和可持续发展,以前瞻性眼光布局数字化咨询服务发展战略,致力于帮助企业和机构解决战略、管理以及与数字化相关的重要问题,为企业提供专业咨询服务。 专注能力聚焦行业的全面的咨询体系。横向上,形成了包括战略规划与流程变革、企业
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